Đáp án đúng: B
SOI (Silicon on Insulator) là một công nghệ trong sản xuất vi mạch, trong đó một lớp mỏng silicon hoạt động được tạo ra trên một lớp cách điện, thường là silicon dioxide (SiO2). Mục đích của việc này là để cải thiện hiệu suất và giảm tiêu thụ năng lượng của các thiết bị điện tử.
Phương án A: Tạo hình các thành phần mạch trên wafer. Đây là một bước trong quá trình sản xuất vi mạch, nhưng không phải là cách SOI được hình thành.
Phương án B: Tạo một lớp silicon trên lớp cách điện. Đây chính xác là cách SOI được hình thành. Lớp silicon mỏng này là nơi các transistor và các thành phần khác của mạch được chế tạo.
Phương án C: Tạo lớp bảo vệ trên wafer. Lớp bảo vệ có thể được tạo ra trong quá trình sản xuất, nhưng không phải là bản chất của công nghệ SOI.
Phương án D: Tạo một lớp cách điện trên lớp silicon. Đây là cấu trúc ngược lại so với SOI. Trong SOI, lớp silicon nằm trên lớp cách điện.
Do đó, đáp án đúng là B.