Ưu điểm chính của kỹ thuật E-Beam là gì so với phương pháp photolithography truyền thống?
Trả lời:
Đáp án đúng: C
Kỹ thuật E-Beam (Electron Beam Lithography) sử dụng chùm electron để vẽ trực tiếp lên bề mặt vật liệu, cho phép tạo ra các chi tiết cực kỳ nhỏ với độ phân giải cao hơn nhiều so với photolithography truyền thống. Photolithography truyền thống sử dụng ánh sáng (thường là UV) và mặt nạ (mask) để chiếu hình ảnh lên vật liệu. Do giới hạn về bước sóng của ánh sáng và độ chính xác của mặt nạ, độ phân giải của photolithography bị giới hạn. Do đó, ưu điểm chính của E-Beam là khả năng tạo ra các chi tiết nhỏ hơn với độ chính xác cao hơn.
Các lựa chọn khác không chính xác vì:
- A. Hiệu suất sản xuất của E-Beam thấp hơn nhiều so với photolithography.
- B. Chi phí của E-Beam cao hơn đáng kể so với photolithography.
- D. Cả E-Beam và photolithography đều có thể sử dụng các nguồn "ánh sáng" khác nhau, nhưng E-Beam không bị giới hạn bởi bước sóng như photolithography.
