Quá trình photoresist trong VLSI sử dụng ánh sáng có bước sóng như thế nào?

Trong quá trình chế tạo VLSI (Very-Large-Scale Integration), photoresist là một vật liệu nhạy sáng được sử dụng để tạo ra các mẫu (patterns) trên bề mặt của wafer bán dẫn. Quá trình này sử dụng ánh sáng để thay đổi tính chất hóa học của photoresist, cho phép loại bỏ các vùng photoresist không mong muốn và để lại các vùng cần thiết cho quá trình khắc (etching) tiếp theo. Để đạt được độ phân giải cao và tạo ra các mẫu nhỏ, cần sử dụng ánh sáng có bước sóng ngắn. Ánh sáng có bước sóng ngắn (ví dụ, tia cực tím - ultraviolet) có khả năng tạo ra các chi tiết nhỏ hơn so với ánh sáng có bước sóng dài. Do đó, đáp án B là chính xác. Các lựa chọn khác không chính xác vì: * **A. Ánh sáng có bước sóng dài:** Không phù hợp để tạo ra các mẫu có độ phân giải cao trong VLSI. * **C. Ánh sáng có bước sóng trong khoảng cả visible và ultraviolet:** Mặc dù tia cực tím có thể được sử dụng, nhưng việc bao gồm cả ánh sáng nhìn thấy (visible) sẽ làm giảm độ phân giải. * **D. Ánh sáng có bước sóng trong khoảng cả ultraviolet và infrared:** Tia hồng ngoại (infrared) không phù hợp cho quá trình photoresist do bước sóng dài của nó và không đủ năng lượng để tạo ra các thay đổi hóa học cần thiết trong photoresist.