Quá trình etching trong VLSI có thể được sử dụng để tạo ra những thành phần mạch nào sau đây?

Quá trình etching (khắc) trong VLSI (Very-Large-Scale Integration) là một kỹ thuật quan trọng được sử dụng để loại bỏ các vật liệu không mong muốn trên bề mặt wafer, từ đó tạo ra các cấu trúc và thành phần mạch điện tử. Dưới đây là phân tích chi tiết về ứng dụng của etching trong việc tạo ra các thành phần mạch:

1. Transistor MOSFET (A): Etching được sử dụng để xác định các vùng khác nhau của transistor MOSFET, chẳng hạn như cổng (gate), nguồn (source) và máng (drain). Quá trình này cho phép tạo ra các cấu trúc chính xác và kiểm soát kích thước của transistor.
2. Các lớp bảo vệ wafer (B): Etching được sử dụng để loại bỏ các lớp vật liệu bảo vệ sau khi chúng đã hoàn thành vai trò bảo vệ trong các bước xử lý trước đó. Điều này đảm bảo chỉ các vùng cần thiết mới còn lại trên wafer.
3. Các tuyến dẫn và kết nối giữa các thành phần (C): Etching được sử dụng để tạo ra các đường dẫn kim loại (metal lines) và các kết nối (vias) giữa các lớp khác nhau của mạch tích hợp. Điều này cho phép các thành phần giao tiếp và hoạt động cùng nhau.
4. Đèn LED (D): Mặc dù etching có thể được sử dụng trong quá trình sản xuất đèn LED, nhưng nó không phải là ứng dụng chính của etching trong VLSI. Đèn LED thường được sản xuất bằng các quy trình khác nhau, tập trung vào việc tạo ra các lớp bán dẫn phát quang.

Trong bối cảnh của VLSI, đáp án C (Các tuyến dẫn và kết nối giữa các thành phần) là đáp án chính xác nhất vì etching đóng vai trò then chốt trong việc tạo ra các kết nối điện giữa các transistor và các thành phần khác trên chip.