Có mấy phương pháp chính chế tạo màng nhiều lớp?

Có 3 phương pháp chính để chế tạo màng nhiều lớp: 1. Phương pháp bay hơi nhiệt (Thermal Evaporation): Vật liệu được nung nóng trong môi trường chân không cao cho đến khi bay hơi, sau đó hơi này ngưng tụ trên bề mặt đế để tạo thành màng mỏng. Quá trình này thường được sử dụng cho các vật liệu kim loại và một số vật liệu vô cơ. 2. Phương pháp phún xạ (Sputtering): Các ion khí trơ (thường là argon) được gia tốc và bắn phá một bia vật liệu (target), làm cho các nguyên tử của bia bị bắn ra và lắng đọng trên bề mặt đế để tạo thành màng mỏng. Phương pháp này có thể sử dụng cho nhiều loại vật liệu khác nhau, bao gồm kim loại, hợp kim, oxit và nitride. 3. Phương pháp lắng đọng hóa học từ pha hơi (Chemical Vapor Deposition - CVD): Các chất phản ứng dạng khí được đưa vào buồng phản ứng, nơi chúng phản ứng với nhau trên bề mặt đế để tạo thành màng mỏng. Phương pháp này thường được sử dụng cho việc tạo ra các màng mỏng chất lượng cao của các vật liệu như silicon, silicon dioxide và silicon nitride.