Wafer là gì trong ngành công nghiệp chế tạo mạch tích hợp?

Một loại mô-đun bán dẫn nhỏ gọn

Một thiết bị lưu trữ dữ liệu

Một loại vật liệu trắng trong chế tạo mạch

Lõi silicon đơn thuần được sử dụng để chế tạo mạch tích hợp

Trả lời:

Đáp án đúng: D

Wafer là một tấm bán dẫn mỏng, thường làm từ silicon tinh khiết, được sử dụng làm nền để chế tạo các mạch tích hợp (IC). Các mạch tích hợp được tạo ra trên bề mặt của wafer thông qua một loạt các quy trình như khắc, lắng đọng, và cấy ion. Do đó, đáp án D là chính xác nhất vì nó mô tả wafer là lõi silicon đơn thuần được sử dụng để chế tạo mạch tích hợp. Các đáp án khác không chính xác vì chúng mô tả các thành phần hoặc chức năng khác không liên quan trực tiếp đến định nghĩa của wafer.

100+ câu hỏi trắc nghiệm Thiết kế VLSI kèm đáp án và lời giải minh họa - Phần 2

50 câu hỏi 60 phút

Bắt đầu thi

Câu hỏi liên quan

Câu 35:

Wafer được làm từ vật liệu gì?

Lời giải:

Đáp án đúng: C

Wafer là một tấm mỏng vật liệu bán dẫn, thường là silicon tinh khiết (hoặc đôi khi là các vật liệu như gallium arsenide), được sử dụng làm nền cho việc chế tạo vi mạch tích hợp. Do đó, đáp án đúng là C. Silicon.

Câu 36:

Wafer có hình dạng như thế nào?

Lời giải:

Đáp án đúng: C

Wafer là một tấm bán dẫn mỏng, thường có hình dạng đĩa tròn, được sử dụng trong sản xuất các vi mạch tích hợp. Do đó, đáp án chính xác là "Đĩa phẳng và mỏng".

Câu 37:

Phương pháp etsa nào được sử dụng phổ biến nhất trong quá trình etching trong VLSI?

Lời giải:

Đáp án đúng: B

Trong công nghệ VLSI (Very-Large-Scale Integration), etsa plasma (Plasma Etching) là phương pháp được sử dụng phổ biến nhất. Lý do là vì etsa plasma cho phép kiểm soát quá trình etsa một cách chính xác hơn, tạo ra các đặc tính có kích thước nhỏ và độ đồng đều cao, điều mà các phương pháp etsa khác khó đạt được. Etsa hóa học (Chemical Etching) thường isotropic (etsa theo mọi hướng), không phù hợp với các cấu trúc nhỏ và phức tạp của VLSI. Etsa điện hóa (Electrochemical Etching) và etsa laser (Laser Etching) ít được sử dụng hơn trong VLSI so với etsa plasma.

Câu 38:

Quá trình photoresist được sử dụng để làm gì trong VLSI?

Lời giải:

Đáp án đúng: A

Photoresist là một vật liệu nhạy cảm với ánh sáng được sử dụng trong quá trình sản xuất vi mạch (VLSI). Quá trình photoresist bao gồm các bước như phủ photoresist lên wafer, chiếu xạ qua mặt nạ (mask) chứa hình ảnh của mạch, và sau đó loại bỏ phần photoresist đã tiếp xúc (hoặc không tiếp xúc, tùy thuộc vào loại photoresist) để tạo ra một khuôn mẫu (pattern) trên wafer. Khuôn mẫu này sau đó được sử dụng để khắc (etch) hoặc cấy ion (ion implantation) vào wafer, tạo ra các thành phần mạch. Do đó, đáp án đúng là A: Tạo hình các thành phần mạch trên wafer.

Câu 39:

Photoresist là gì trong quá trình photoresist trong VLSI?

Lời giải:

Đáp án đúng: B

Photoresist là một vật liệu nhạy cảm với ánh sáng được sử dụng trong quá trình quang khắc (photolithography) trong sản xuất vi mạch VLSI. Nó được phủ lên bề mặt wafer, sau đó được chiếu sáng thông qua một mặt nạ (mask) để tạo ra một mẫu (pattern). Các phần của photoresist tiếp xúc với ánh sáng sẽ thay đổi tính chất hóa học (trở nên hòa tan hoặc không hòa tan, tùy thuộc vào loại photoresist là positive hay negative). Sau đó, một dung dịch phát triển (developer) được sử dụng để loại bỏ các phần photoresist đã bị thay đổi, để lại một mẫu trên wafer. Vì vậy, đáp án đúng là chất sơn phủ lên wafer.

Câu 40:

Quá trình n-well là gì trong VLSI?

Lời giải: