ASIC được thiết kế cho mục đích gì?

Trong thiết kế VLSI (Very-Large-Scale Integration), mức độ trừu tượng RTL (Register-Transfer Level) là một mức độ thiết kế mô tả mạch điện tử theo luồng dữ liệu giữa các thanh ghi và các phép toán logic được thực hiện trên dữ liệu đó.
A. RTL (Register-Transfer Level): Đây là mức độ trừu tượng phổ biến để mô tả hoạt động của mạch điện tử trong VLSI, tập trung vào luồng dữ liệu giữa các thanh ghi.
B. GDSII (Graphical Data System II): Đây là định dạng file được sử dụng để lưu trữ thông tin về bố cục vật lý của mạch tích hợp, không phải là mức độ trừu tượng để mô tả hoạt động của mạch.
C. Gate-Level: Mức độ này mô tả mạch điện tử bằng các cổng logic (AND, OR, NOT, v.v.), mức độ chi tiết hơn so với RTL.
D. RTL (Register-Transfer Language): Mặc dù có liên quan đến RTL, nhưng đáp án này nhấn mạnh vào ngôn ngữ dùng để mô tả, còn câu hỏi tập trung vào mức độ trừu tượng.
Vậy, đáp án đúng nhất là A.

Trong quá trình photolithography (quang khắc), ánh sáng được sử dụng thường có bước sóng ngắn để tạo ra độ phân giải cao hơn. Ánh sáng có bước sóng ngắn hơn ánh sáng tím nằm trong vùng tử ngoại (UV), do đó cho phép khắc các chi tiết nhỏ hơn trên vật liệu bán dẫn. Các loại ánh sáng khác như ánh sáng xanh, đỏ, tím có bước sóng dài hơn, dẫn đến độ phân giải kém hơn trong quá trình quang khắc.

Công nghệ EUV (Extreme Ultraviolet) Lithography sử dụng bước sóng cực tím ngắn hơn nhiều so với các phương pháp lithography truyền thống (như deep-UV). Bước sóng ngắn hơn cho phép khắc các chi tiết nhỏ hơn và tạo ra độ phân giải cao hơn trên chip. Điều này cho phép sản xuất các vi mạch với mật độ bóng bán dẫn cao hơn, cải thiện hiệu năng và giảm kích thước của các thiết bị điện tử. Do đó, ưu điểm chính của EUV so với lithography truyền thống là độ phân giải cao và khả năng tạo chi tiết nhỏ.