Kỹ thuật E-Beam sử dụng một chùm electron có năng lượng cao để làm gì?
Trả lời:
Đáp án đúng: B
Kỹ thuật E-Beam (Electron Beam Lithography) sử dụng một chùm electron năng lượng cao để khắc trực tiếp lên vật liệu, thường là wafer, theo một mẫu thiết kế đã định trước. Trong quá trình sản xuất chip, kỹ thuật này được dùng để chuyển đổi mô hình (pattern) từ mask (hoặc từ dữ liệu thiết kế) thành hình ảnh trên wafer. Các bước khác như cắt, mài wafer, phủ photoresist hay kiểm tra chất lượng wafer có thể sử dụng các kỹ thuật khác nhau.





