JavaScript is required

Kỹ thuật E-Beam sử dụng một chùm electron có năng lượng cao để làm gì?

A.

Cắt và mài wafer thành các chip nhỏ

B.

Chuyển đổi mô hình trên mask thành hình ảnh trên wafer

C.

Phủ lên một lớp photoresist trên wafer

D.

Kiểm tra chất lượng của wafer

Trả lời:

Đáp án đúng: B


Kỹ thuật E-Beam (Electron Beam Lithography) sử dụng một chùm electron năng lượng cao để khắc trực tiếp lên vật liệu, thường là wafer, theo một mẫu thiết kế đã định trước. Trong quá trình sản xuất chip, kỹ thuật này được dùng để chuyển đổi mô hình (pattern) từ mask (hoặc từ dữ liệu thiết kế) thành hình ảnh trên wafer. Các bước khác như cắt, mài wafer, phủ photoresist hay kiểm tra chất lượng wafer có thể sử dụng các kỹ thuật khác nhau.

Câu hỏi liên quan