Quá trình cấy ion có thể được sử dụng để thay đổi gì trong vi mạch?
Trả lời:
Đáp án đúng: D
Quá trình cấy ion (ion implantation) là một kỹ thuật được sử dụng rộng rãi trong sản xuất vi mạch để thay đổi tính chất điện của vật liệu bán dẫn. Cụ thể, nó được sử dụng để điều chỉnh nồng độ tạp chất trong chất bán dẫn, từ đó thay đổi độ dẫn điện (điện dẫn) của vùng đó. Việc cấy các ion mang điện tích vào chất bán dẫn sẽ tạo ra các vùng dẫn điện tốt hơn (nếu cấy các ion tạp chất cho) hoặc ít dẫn điện hơn (nếu cấy các ion tạp chất nhận). Điều này cho phép các nhà thiết kế vi mạch tạo ra các transistor và các linh kiện bán dẫn khác với các đặc tính điện mong muốn.
Điện trở và điện dung là các thuộc tính phụ thuộc vào hình dạng và vật liệu của các thành phần, nhưng cấy ion tác động trực tiếp đến điện dẫn của bán dẫn. Điện áp không phải là một thuộc tính có thể thay đổi trực tiếp bằng cấy ion.
Do đó, đáp án chính xác là D.
